레지스트 하층막 형성용 조성물, 레지스트 하층막 및 그의 형성 방법 그리고 패터닝된 기판의 제조 방법

평탄성이 우수함과 함께 용매 내성, 내열성 및 에칭 내성이 우수한 레지스트 하층막을 형성할 수 있는 레지스트 하층막 형성용 조성물의 제공을 목적으로 한다. 본 발명은, 하기 식 (1)로 표시되는 부분 구조를 갖는 화합물과, 용매를 함유하는 레지스트 하층막 형성용 조성물이다. 하기 식 (1) 중, X는, 하기 식 (i), (ii), (iii) 또는 (iv)로 표시되는 기이다. 하기 식 (i) 중, R및 R는, 각각 독립적으로 수소 원자, 히드록시기, 치환 혹은 비치환된 탄소수 1 내지 20의 1가의 지방족 탄화수소기 또는 치환 혹은...

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Hauptverfasser:	EHARA KENGO, ABE TSUBASA, WAKAMATSU GOJI, NAKATSU HIROKI, MIURA ICHIHIRO, NAKAGAWA HIROKI, NOSAKA NAOYA
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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