가변 주파수 생성기들을 사용하는 스마트 RF 펄싱 튜닝

RF 펄스 반사 감소를 위한 방법들 및 시스템들이 본원에서 제공된다. 일부 실시예들에서, 방법은, (a) 제1 듀티 사이클 동안의 복수의 RF 생성기들로부터의 복수의 펄스형 RF 전력 파형들을 포함하는, 기판을 프로세싱하기 위한 프로세스 레시피를 수신하는 단계; (b) 제1 듀티 사이클을 복수의 동일 시간 간격들로 분할하는 단계; (c) 각각의 RF 생성기에 대해, 모든 간격들에 대한 주파수 커맨드 세트를 결정하고, 주파수 커맨드 세트를 RF 생성기에 전송하는 단계 - 주파수 커맨드 세트는 복수의 동일 시간 간격들에서의 간격들 각각에 대한 주파수 세트 포인트를 포함함 -; 및 (d) 각각의 RF 생성기에 전송된 주파수 커맨드 세트에 따라, 제1 듀티 사이클 동안 복수의 RF 생성기들로부터 프로세스 챔버에 복수의 RF 전력 파형들을 제공하는 단계를 포함한다. Methods and systems for RF pulse reflection reduction are provided herein. In some embodiments, a method includes (a) receiving a process recipe for processing the substrate that includes a plurality of pulsed RF power waveforms from a plurality of RF generators during a first duty cycle, (b) dividing the first duty cycle into a plurality of equal time intervals, (c) for each RF generator, determining a frequency command set for all intervals and send the frequency command set to the RF generator, wherein the frequency command set includes a frequency set point for each of the intervals in the plurality of equal time intervals, and (d) providing a plurality of RF power waveforms from a plurality of RF generators to a process chamber during a first duty cycle according to the frequency command set sent to each RF generator.