Plasma monitoring apparatus and method
The present invention relates to a device and method for monitoring plasma capable of monitoring the blockage of electrode holes using a camera. The device may comprise: at least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting a plasma gas; and an image discriminating uni...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Zusammenfassung: | The present invention relates to a device and method for monitoring plasma capable of monitoring the blockage of electrode holes using a camera. The device may comprise: at least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting a plasma gas; and an image discriminating unit capable of determining states of the electrode holes using image information obtained from the camera.
본 발명은 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로서, 플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀들을 촬영할 수 있는 적어도 하나의 적어도 하나의 카메라; 및 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀들의 상태를 판별할 수 있는 영상 판별부;를 포함할 수 있다. |
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