전자 소스를 위한 추출기 전극
추출기들 및 추출기 시스템들은 1차 전자 빔과 상호작용하여 이를 저하시키는 2차 전자들의 생성을 최소화한다. 이는, 주사 전자 현미경과 같은 전자 빔 시스템의 성능을 개선할 수 있다. 추출기는 전자 빔의 소스로부터의 거리가 증가함에 따라 넓어지는 절두원추형 애퍼처를 포함할 수 있다. 절두원추형 애퍼처로의 입구는 또한 만곡된 에지를 포함할 수 있다. Extractors and extractor systems minimize the generation of secondary electrons which interact with and...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 추출기들 및 추출기 시스템들은 1차 전자 빔과 상호작용하여 이를 저하시키는 2차 전자들의 생성을 최소화한다. 이는, 주사 전자 현미경과 같은 전자 빔 시스템의 성능을 개선할 수 있다. 추출기는 전자 빔의 소스로부터의 거리가 증가함에 따라 넓어지는 절두원추형 애퍼처를 포함할 수 있다. 절두원추형 애퍼처로의 입구는 또한 만곡된 에지를 포함할 수 있다.
Extractors and extractor systems minimize the generation of secondary electrons which interact with and degrade the primary electron beam. This can improve the performance of an electron beam system, such as a scanning electron microscope. The extractor may include a frustoconical aperture that widens as distance from the source of the electron beam increases. The entrance into the frustoconical aperture also can include a curved edge. |
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