METHOD OF MANUFACTURING EMITTER

[과제] 이미터의 소재가 각종 다양한 경우에도, 이미터의 선단을 바람직한 형상으로 성형할 수 있는 이미터의 제작 방법을 제공하는 것이다. [해결 수단] 이미터의 제작 방법은, 도전성의 이미터 소재의 선단부를 전해 연마 가공하고, 선단을 향해 점차 축경하도록 가공하는 공정과, 당해 공정에 의해 가공된 이미터 소재에 있어서의 가공 부위에 하전 입자 빔을 조사하여 에칭 가공을 행하고, 선단을 꼭지점으로 한 각뿔형상의 첨예부를 형성하는 공정과, 당해 공정에 의해 당해 첨예부가 형성된 이미터 소재의 표면을 스퍼터링 가공하고, 하전 입자 빔에 의한 에칭 가공의 흔적을 제거하는 공정과, 당해 공정에 의해 당해 흔적이 제거된 이미터 소재의 당해 첨예부에 있어서의 선단의 결정 구조를 전계 이온 현미경으로 관찰하면서, 당해 선단을 전계 유기 가스 에칭 가공에 의해 더욱 첨예화시켜, 그 최선단을 구성하는 원자수를 일정수 이하로 하는 공정을 갖는다. Disclosed is a method of manufacturing an emitter in which the tip of the emitter can be formed into a desired shape even when various materials are used for the emitter. The method includes performing an electrolytic polishing process of polishing a front end of a conductive emitter material so that a diameter of the front end is gradually reduced toward a tip; performing a first etching process by irradiating a processing portion of the emitter material processed by the electrolytic polishing process with a charged particle beam; performing a sputtering process by irradiating the pointed portion formed by the first etching process with a focused ion beam; and performing a secondary etching process of further sharpening the tip by an electric field induced gas etching processing while observing a crystal structure of the tip of the pointed portion processed by the sputtering process using a field ion microscope.