SUPERSTRATE AND A METHOD OF USING THE SAME
A body of a superstrate can be used to form an adaptive planarization layer over a substrate that has a non-uniform topography. The body of a superstrate can have bending characteristics that are very suitable to achieve both conformal and planarization behaviors. The body can have the surface and t...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | A body of a superstrate can be used to form an adaptive planarization layer over a substrate that has a non-uniform topography. The body of a superstrate can have bending characteristics that are very suitable to achieve both conformal and planarization behaviors. The body can have the surface and the thickness in a range of t_1 to t_2, wherein t_1 = (Pd^4/2Eh)^1/3, t_2 = (5Pd^4/2Eh)^1/3, P is the pressure corresponding to a capillary force between the body and a planarization precursor material, d is a bending distance, E is Young′s modulus for the body, and h is a step height difference between two adjacent regions of a substrate. According to an embodiment of the present invention, the thickness can be selected and used to determine the maximum out-of-plane displacement (w_max) for a conformal behavior is sufficient and that the w_max for a planarization behavior is less than a predetermined threshold.
수퍼스트레이트의 본체는 비균일 토포그래피를 갖는 기판 위에 적응성 평탄화 층을 형성하는데 사용될 수 있다. 수퍼스트레이트의 본체는 등각 및 평탄화 거동 모두를 달성하는 데 매우 적절한 굴곡 특성을 가질 수 있다. 본체는 표면 및 t내지 t범위의 두께를 가질 수 있으며, t= (Pd/2Eh); t= (5Pd/2Eh); P는 본체와 평탄화 전구체 재료 사이의 모세관력에 대응하는 압력이고; d는 굴곡 거리이고; E는 본체의 영 모듈러스이고; h는 기판의 2개의 인접한 구역 사이의 단차 높이 차이이다. 일 실시예에서, 두께는 등각 거동에 대한 최대 평면외 변위(w)가 충분하고, 평탄화 거동에 대한 w가 미리 결정된 임계치 미만인 것을 결정하기 위해 선택 및 사용될 수 있다. |
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