포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크의 일 측면을 수용하여 세정 매체로부터 보호하기 위한 홀더, 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크를 세정하기 위한 방법, 및 홀더를 개방 및 폐쇄하기 위한 장치

본 발명은 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크의 일 측면을 수용하여 세정 매체로부터 보호하기 위한 홀더, 이러한 포토 마스크를 세정하기 위한 방법, 및 홀더를 개방 및 폐쇄하기 위한 장치에 관한 것이다. 홀더(1)는 적어도 3 개의 지지 요소들(15)을 갖는 베이스 - 적어도 3 개의 지지 요소들은 베이스의 바닥 표면(9)으로부터 이격되어 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크를 수용하여 유지하도록 배열됨 - ; 상부 측면(24) 및 하부 측면(25)을 갖는 밀봉 프레임(7, 20, 21) - 하부 측면은 베이스 상에 안착될 수 있고, 밀봉 프레임은 중심 개구가 이격된 방식으로 포토 마스크를 수용할 수 있도록 크기가 정해진 중심 개구(26)를 포함함 - ;을 포함한다. 중심 개구의 내주로부터 중심 개구 내로 밀봉 프레임의 상부 측면을 향해 경사진 방식으로 연장되는 원주 방향의 탄성 밀봉 요소(22)가 밀봉 프레임 상에 제공되고, 밀봉 요소는 무 부하 상태에서 포토 마스크의 외주보다 작은 내주를 가지며, 밀봉 요소는 부하 상태에서 중심 개구에 수용된 포토 마스크와 그의 측면 표면에서 원주 방향으로 접촉한다. A holder for receiving and for protecting one side of a photomask or a photomask with pellicle from a cleaning medium, a method for cleaning such a photomask and an apparatus for opening and closing a holder are disclosed. The holder comprises a base having at least three support elements, which are arranged for receiving and for holding the photomask or the photomask with pellicle spaced from the bottom surface of the base, a sealing frame having an upper side and a lower side, wherein the lower side may be seated onto the base, and wherein the sealing frame comprises a centre opening, which is sized such that it may receive the photomask in a spaced manner. A circumferential, elastic sealing element is provided on the sealing frame, which extends from the inner circumference of the centre opening into the centre opening in an inclined manner towards the upper side of the sealing frame, wherein the sealing element in a no load condition has an inner circumference, which is smaller than the outer circumference of the photomask, and in a load condition circumferentially contacts a photomask, which is received in the centre opening, at its side surface.