마이크로전자 디바이스 내의 패턴화된 구조물의 파라미터를 측정하기 위한 광학 시스템 및 방법

적층 샘플이 측정 평면 내에 위치될 때, 적층 샘플의 상부 표면 상의 측정에 사용하기 위한 광학 시스템과 방법이 제시된다. 광학 시스템은 조명 채널과 콜렉터 채널을 가진 수직-입사 시스템으로 구성되고, 대물 렌즈 유닛과 광 전파 영향 디바이스를 포함한다. 대물 렌즈 유닛은 조명 채널과 콜렉션 채널 내에 수용되어서, 측정 평면 내의 조명 영역을 향하는 조명 채널로부터의 조명 광의 전파와 측정 평면으로부터 되돌아온 광의 콜렉션 채널로의 전파를 위한 공통 광학 경로를 형성한다. 광 전파 영향 디바이스는 조명 채널과 콜렉션 채널 중 적어도 하나에 위치된 어퍼쳐 구조물을 포함하고, 상기 조명된 영역 외부의 영역으로부터의 광 전파와 연관된 각도 세그먼트를 차단하기 위해, 광 전파 경로의 각도 차폐를 제공하도록 구성된다. An optical system and method are presented for use in measurements on an upper surface of a layered sample when located in a measurement plane. The optical system is configured as a normal-incidence system having an illumination channel and a collection channel, and comprises an objective lens unit and a light propagation affecting device. The objective lens unit is accommodated in the illumination and collection channels, thereby defining a common optical path for propagation of illuminating light from the illumination channel toward an illuminating region in the measurement plane and for propagation of light returned from measurement plane to the collection channel. The light propagation affecting device comprises an apertured structure located in at least one of the illumination and collection channels, and configured to provide angular obscuration of light propagation path for blocking angular segments associated with light propagation from regions outside the illuminated region.