전구체 제어 시스템 및 프로세스

본원에서 설명되는 구현들은 일반적으로, 화학 전구체들을 전달하기 위해 사용되는 시스템들, 방법들, 및 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로, 화학 전구체들을 수용하기 위한 앰풀에 관한 것이다. 본원에서 설명되는 구현들은 일반적으로, 화학 전구체들을 전달하기 위해 사용되는 시스템들, 방법들, 및 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로, 화학 전구체들을 수용하기 위한 앰풀에 관한 것이다. 일 구현에서, 기상 증착 프로세싱 시스템에서 사용되는 화학 전구체를 생성하기 위한 장치가 제공된다. 장치는, 측벽, 상단, 및 바닥 표면을 포함하는 캐니스터 - 측벽, 상단, 및 바닥 표면은 캐니스터 내의 내부 볼륨을 둘러쌈 -; 바닥 표면 및 측벽의 외측 표면 위에 배치된 접착 층; 접착 층 위에 배치된 열 전도성 코팅; 열 전도성 코팅 위에 배치된 단열체 층 - 바닥 표면 위의 열 전도성 코팅은 노출된 상태로 유지됨 -; 및 내부 볼륨과 유체 연통하는, 유입구 포트 및 배출구 포트를 포함한다. Systems, methods and an apparatus used for delivery of chemical precursors, and more particularly to an ampoule for containing chemical precursors are provided. In one implementation, an apparatus for generating a chemical precursor used in a vapor deposition processing system is provided. The apparatus comprises a canister comprising a sidewall, a top, and a bottom surface encompassing an interior volume therein, an adhesion layer disposed over an outside surface of the sidewall and bottom surface, a thermally conductive coating disposed over the adhesion layer, an insulator layer disposed over the thermally conductive coating, wherein the thermally conductive coating over the bottom surface remains exposed and an inlet port and an outlet port in fluid communication with the interior volume.