ICPMS SYSTEMS AND METHODS FOR ICPMS MATRIX OFFSET CALIBRATION

Described are a system and method for calibrating an analytical instrument for analyzing a plurality of sample matrices in series. A system according to an embodiment includes, but is not limited to, a sample analysis device configured to receive a plurality of samples from a plurality of remote sam...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: UHLMEYER KYLE W, WIEDERIN DANIEL R, FIELD MICHAEL P, LEE JAE SEOK
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:Described are a system and method for calibrating an analytical instrument for analyzing a plurality of sample matrices in series. A system according to an embodiment includes, but is not limited to, a sample analysis device configured to receive a plurality of samples from a plurality of remote sampling systems and to measure an intensity of one or more species of interest contained in each of the plurality of samples; and a controller configured to generate a primary calibration curve based on analysis of a first standard solution having a first sample matrix by the sample analysis device and generate at least one secondary calibration curve based on analysis of a second standard solution having a second sample matrix by the sample analysis device, the controller configured to associate at least one secondary calibration curve with the primary calibration curve according to a matrix correction factor. 본원에는 복수의 샘플 매트릭스를 연속하여 분석하는 분석 기구를 캘리브레이션하는 시스템 및 방법이 기술된다.  시스템 실시예는, 이하에 한정되는 것은 아니지만, 복수의 원격 샘플링 시스템으로부터 복수의 샘플을 수신하고 복수의 샘플 각각에 포함된 하나 이상의 대상 종의 강도를 측정하도록 구성된 샘플 분석 장치와, 샘플 분석 장치에 의한 제1 샘플 매트릭스를 갖는 제1 표준 솔루션의 분석에 기초하여 1차 캘리브레이션 커브를 생성하고 샘플 분석 장치에 의한 제2 샘플 매트릭스를 갖는 제2 표준 솔루션의 분석에 기초하여 적어도 하나의 2차 캘리브레이션 커브를 생성하도록 구성되는 제어기를 포함할 수 있고, 제어기는 매트릭스 보정 인자에 따라 적어도 하나의 2차 캘리브레이션 커브를 1차 캘리브레이션 커브와 결합시키도록 구성된다.