기판을 코팅하기 위한 분무 프로세스

가스 스트림에 무화된 물질(F)로 기판을 코팅하기 위한 분무 프로세스의 경우, 상기 기판(S) 상에 작용하는 가스 스트림(L)은 스프레이 헤드(20)에 의해 생성된다. 상기 물질(F)은 적용 팁(14)이 제공된 주사기-형 적용 용기(10)에 있다. 상기 스프레이 헤드(20) 외측에서 일정 거리를 두는, 상기 물질(F)을 함유하는 적용 용기(10)의 적용 팁(14)은 가스 스트림(L)의 흐름의 주 방향에 대해 가로질러 가스 스트림(L)에 도입되고, 이 시점에서, 상기 물질(F)은 적용 용기(10)로부터 상기 가스 스트림(L)으로 도입...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MARCOS CARINE, NEUGEBAUER ELISABETH, GUELLER ROLF
Format: Patent
Sprache:kor
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