기판을 코팅하기 위한 분무 프로세스

가스 스트림에 무화된 물질(F)로 기판을 코팅하기 위한 분무 프로세스의 경우, 상기 기판(S) 상에 작용하는 가스 스트림(L)은 스프레이 헤드(20)에 의해 생성된다. 상기 물질(F)은 적용 팁(14)이 제공된 주사기-형 적용 용기(10)에 있다. 상기 스프레이 헤드(20) 외측에서 일정 거리를 두는, 상기 물질(F)을 함유하는 적용 용기(10)의 적용 팁(14)은 가스 스트림(L)의 흐름의 주 방향에 대해 가로질러 가스 스트림(L)에 도입되고, 이 시점에서, 상기 물질(F)은 적용 용기(10)로부터 상기 가스 스트림(L)으로 도입...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MARCOS CARINE, NEUGEBAUER ELISABETH, GUELLER ROLF
Format: Patent
Sprache:kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:가스 스트림에 무화된 물질(F)로 기판을 코팅하기 위한 분무 프로세스의 경우, 상기 기판(S) 상에 작용하는 가스 스트림(L)은 스프레이 헤드(20)에 의해 생성된다. 상기 물질(F)은 적용 팁(14)이 제공된 주사기-형 적용 용기(10)에 있다. 상기 스프레이 헤드(20) 외측에서 일정 거리를 두는, 상기 물질(F)을 함유하는 적용 용기(10)의 적용 팁(14)은 가스 스트림(L)의 흐름의 주 방향에 대해 가로질러 가스 스트림(L)에 도입되고, 이 시점에서, 상기 물질(F)은 적용 용기(10)로부터 상기 가스 스트림(L)으로 도입된다. In a spraying process for coating a substrate with a substance atomised in a stream of gas, a spray head is used to generate a stream of gas that acts upon the substrate. The substance is present in a syringe-like application container equipped with an application tip. The application tip of the application container containing the substance is introduced into the stream of gas outside the spray head at a distance therefrom and transversely with respect to the main direction of flow of the stream of gas, and the substance is introduced from the application container into the stream of gas at that location.