VAPOR DEPOSITION APPARATUS

The present invention provides a vapor deposition apparatus which can reduce a difference between a temperature of an adjustment target such as a substrate or a deposition mask and a target temperature. At least one side of a substrate (W) and a deposition mask (M) is an adjustment target for temperature. The vapor deposition apparatus includes: a resistance heating heater (22) thermally coming in contact with the adjustment target to adjust a temperature of the adjustment target; and a temperature adjustment unit (33) to control a current supplied to the resistance heating heater (22) in accordance with the temperature of the adjustment target. A temperature higher than the temperature of the adjustment target when inserted into a vacuum tank (16) is a target temperature of the adjustment target. The temperature adjustment unit (33) sets the target temperature when a deposition material is discharged from a deposition source (11) to a temperature reached only by supply and stoppage of calories by the resistance heating heater (22). 기판이나 증착 마스크 등의 조정 대상의 온도와 목표 온도의 차이를 저감 가능하게 한 증착 장치를 제공한다. 기판(W)과 증착 마스크(M)의 적어도 한쪽이 온도의 조정 대상이고, 증착 장치는 조정 대상과 열적으로 접촉하여 조정 대상의 온도를 조정하는 저항 가열 히터(22)와 저항 가열 히터(22)에 공급하는 전류를 조정 대상의 온도에 의거하여 제어하는 온도 조정부(33)를 구비한다. 진공조(16)에 반입되었을 때의 조정 대상의 온도보다 높은 온도가 조정 대상의 목표 온도이다. 온도 조정부(33)는 증착원(11)으로부터 증착 재료가 방출될 때의 목표 온도를 저항 가열 히터(22)에 의한 열량의 공급과 정지에 의해서만 도달하는 온도로 설정한다.