METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING SUBSTRATE DEFORMITY

Embodiments of methods and an apparatus for correcting substrate deformity are provided herein. In some embodiments, a substrate support includes a base having an interior volume formed by walls extending upward from the base; a plurality of infrared lamps disposed within the interior volume; a support plate disposed above the plurality of infrared lamps, wherein the support plate includes a support surface to support a substrate; and a cover plate disposed atop the support plate and having a central opening corresponding to the support surface and an exhaust portion at a periphery of a top surface of the cover plate, wherein the exhaust portion includes a plurality of perforations fluidly coupling a space above the cover plate to an exhaust conduit formed in the cover plate. Embodiments of a showerhead assembly and processing equipment incorporating the inventive substrate support unit and showerhead assembly are additionally provided herein. 기판 변형을 보정하기 위한 방법들 및 장치의 실시예들이 본원에서 제공된다. 일부 실시예들에서, 기판 지지부는, 베이스 - 베이스는, 베이스로부터 상향으로 연장되는 벽들에 의해 형성되는 내부 볼륨을 가짐 -; 내부 볼륨 내에 배치되는 복수의 적외선 램프들; 복수의 적외선 램프들 위에 배치되는 지지 플레이트 - 지지 플레이트는, 기판을 지지하기 위한 지지 표면을 포함함 -; 및 지지 플레이트 최상부에 배치되는 커버 플레이트를 포함하며, 커버 플레이트는, 지지 표면에 대응하는 중앙 개구, 및 커버 플레이트의 최상부 표면의 둘레에 있는 배기 부분을 갖고, 배기 부분은, 커버 플레이트 위의 공간을 커버 플레이트에 형성된 배기 도관과 유체유동가능하게 커플링시키는 복수의 천공들을 포함한다. 부가적으로, 샤워헤드 어셈블리, 및 본 발명의 기판 지지부 및 샤워헤드 어셈블리를 포함하는 프로세싱 장비의 실시예들이 본원에서 제공된다.