비접촉식 정렬을 위한 방법 및 장치
방법은, 기판 어레인지먼트(210)를 비접촉식으로 부상시키는 단계를 포함한다. 기판 어레인지먼트(210)는 기판(10)을 포함한다. 이 방법은, 마스크 어레인지먼트(220)를 비접촉식으로 부상시키는 단계를 포함한다. 마스크 어레인지먼트(220)는 기판(10)을 마스킹하기 위한 마스킹 디바이스(20)를 포함한다. 이 방법은, 기판 어레인지먼트(210)와 마스크 어레인지먼트(220)를 서로에 대해 비접촉식으로 정렬하는 단계를 포함한다. A method includes contactlessly levitating a substrate a...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | kor |
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| Zusammenfassung: | 방법은, 기판 어레인지먼트(210)를 비접촉식으로 부상시키는 단계를 포함한다. 기판 어레인지먼트(210)는 기판(10)을 포함한다. 이 방법은, 마스크 어레인지먼트(220)를 비접촉식으로 부상시키는 단계를 포함한다. 마스크 어레인지먼트(220)는 기판(10)을 마스킹하기 위한 마스킹 디바이스(20)를 포함한다. 이 방법은, 기판 어레인지먼트(210)와 마스크 어레인지먼트(220)를 서로에 대해 비접촉식으로 정렬하는 단계를 포함한다.
A method includes contactlessly levitating a substrate arrangement (210). The substrate arrangement (210) includes a substrate (10). The method includes contactlessly levitating a mask arrangement (220). The mask arrangement (220) includes a masking device (20) for masking the substrate (10). The method includes contactlessly aligning the substrate arrangement (210) and the mask arrangement (220) relative to each other. |
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