Mask Align System With Tact Time Shortened Using Chuck Plate

An object of the present invention is to reduce tack time by reducing a process step in an aligning chamber and reduce tack time of an overall deposition system. The present invention simplifies a process in the aligning chamber and reduces tack time in the aligning chamber by implementing a part of the process implemented in the aligning chamber in one of conventional mask loaders. That is, the present invention implements a bonding process of a mask and a chuck plate in a mask loader A while deviating from a manner of implementing both bonding and aligning of the mask and chuck plate in the aligning chamber and allows a hook of an aligner to immediately lift and align the chuck plate when the same is introduced in the aligning chamber in a bonded state. 본 발명의 목적은 얼라인 챔버에서의 공정 단계를 줄여 택타임을 줄이고 그에 따라 전체적인 증착시스템의 택타임을 줄이고자 하는 것이다. 얼라인 챔버에서 실시되는 공정 중 일부를 기존의 마스크 로더 중 하나에서 실시하게 함으로써 얼라인 챔버에서의 공정을 단순화하여 얼라인 챔버에서의 택타임을 단축시켰다. 즉, 얼라인 챔버에서 마스크와 척 플레이트의 합착 및 얼라인이 모두 실시되던 방식에서 벗어나 마스크 로더A에서 마스크와 척 플레이트 합착 공정을 실시하고 이들이 합착된 상태로 얼라인 챔버에 반입되면 얼라이너의 후크가 척 플레이트를 바로 들어올려 얼라인할 수 있게 하였다.