레지스트 하층막 형성용 조성물, 레지스트 하층막 및 그의 형성 방법 그리고 패터닝된 기판의 제조 방법

평탄성이 우수함과 함께 용매 내성 및 에칭 내성이 우수한 레지스트 하층막을 형성할 수 있는 레지스트 하층막 형성용 조성물, 레지스트 하층막 및 그의 형성 방법 그리고 패터닝된 기판의 제조 방법의 제공을 목적으로 한다. 본 발명은 방향환에 축합된 옥사진환을 갖는 제1 화합물과, 용매를 함유하는 레지스트 하층막 형성용 조성물이다. 상기 제1 화합물은, 하기 식 (1)로 표시되는 부분 구조를 갖는 것이 바람직하다. 하기 식 (1) 중, R내지 R는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 20의 1가의 유기기이다. Ar은, 탄...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	TAKANASHI KAZUNORI, NAKATSU HIROKI, MIURA ICHIHIRO, SAKAI KAZUNORI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HETEROCYCLIC COMPOUNDS HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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