A bubbler of boron doping apparatus

The present invention relates to a bubbler for a boron doping device and, more specifically, to a bubbler for a boron doping device, capable of improving the quality of a semiconductor wafer manufacturing process by diffusing a deposition solution of good quality in a processing chamber by maintaining a liquid bottle accommodating the deposition solution for boron deposition in an optimal state. To achieve the purpose of the present invention, the bubbler for a boron doping device comprises: an outer body having an opening unit in the upper part and forming the exterior appearance; an insulating inner body installed on the inner side of the outer body and having an inlet corresponding to the opening unit, wherein the insulating inner body has an accommodation space in which the liquid bottle containing the deposition solution is placed; a heating unit inserted into the bottom of the inner body; a cooling unit installed in a part corresponding to the heating unit on the bottom of the inner body; and a cover installed in the opening unit of the outer body, wherein the cover comprises: an airtightness maintaining unit opening and closing the opening unit and corresponding to the diameter of the opening unit; and a mounting unit mounted on the upper surface of the outer body by being formed to have the diameter larger than that of the opening unit. 본 발명은 보론 도핑장치의 버블러에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 보론 증착을 위한 증착용액이 수용된 액상바틀을 최적의 상태로 유지시켜, 공정챔버에 양질의 증착용액이 확산되도록 함으로써, 반도체 웨이퍼 제조공정의 품질을 높일 수 있도록 한 보론 도핑장치의 버블러에 관한 것이다. 이를 위해, 외관을 구성하며, 상부에는 개구부가 형성된 외부몸체;상기 외부몸체의 내측에 설치되며, 상기 개구부에 대응되는 출입구가 형성되고 증착용액이 담긴 액상바틀이 배치되는 수용공간이 형성된 단열 재질의 내부몸체;상기 내부몸체의 바닥에 삽입 설치된 온열수단;상기 내부몸체의 저면 중, 온열수단에 대응되는 부위에 설치된 냉각수단;상기 외부몸체의 개구부에 안착되면서, 상기 개구부를 개폐시키되 개구부의 직경에 대응되는 기밀유지부와, 상기 개구부의 직경보다 큰 직경을 갖도록 형성되어 외부몸체의 상면에 안착된 안착부로 구성된 덮개:를 포함하여 구성된 보론 도핑 장치의 버블러를 제공한다.