환경적으로 안정한 후막성 화학증폭형 레지스트

본 발명에는 화학적으로 안정한, 화학증폭형(CA) 포지티브 레지스트 조성물이 기술되어 있다. 이 레지스트 조성물은 적어도 2 종류의 중합체 플랫폼의 블렌드를 기초로 한다. 제1 플랫폼은 낮은 활성화 에너지의 아세탈 블록 폴리하이드록시스티렌(PHS)계 수지이고; 제2 플랫폼은 높은 활성화 에너지의 산 반응성기를 함유하는 아크릴레이트계 수지[예컨대, 3급-부틸 아크릴레이트(t-BA)]이다. 또한, 상기 레지스트 조성물은 적절한 용매 중에 용해된 광산 발생제(PAG), 염기 켄처, 계면활성제도 포함한다. 또한, 본 발명에는 기판 상에 포토레지스트 릴리프 이미지를 형성하는 방법에서의 상기 레지스트 조성물의 용도가 기술되어 있다. Environmentally stable, chemically amplified (CA) positive resist compositions are described. These resist compositions are based on a blend of at least two types of polymer platforms. The first platform is a low activation energy, acetal blocked polyhydroxystyrene (PHS) based resin; the second platform is an acrylate based resin containing a high activation energy acid labile group [such as tertiary-butyl acrylate(t-BA)]. The resist composition also contains a photo-acid generator (PAG), a base quencher, a surfactant dissolved in a suitable solvent. Also described, is the use of these resist composition in a method for forming a photoresist relief image on a substrate.