기판 처리 장치

기판의 오염을 억제하는 기술을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 기판 처리 장치는, 기판을 수평하게 유지하는 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 향하여 처리액을 공급하는 처리액 공급부와, 기판 유지부의 주위를 둘러싸고 기판으로부터 비산된 처리액을 수용하는 액 수용부를 구비한다. 그리고, 액 수용부의 내주면은 기판 유지부에 유지된 기판측에 노출된 복수의 홈을 갖고, 복수의 홈의 각각의 연장 방향은 연직 방향의 성분을 포함한다. 이 때문에, 처리액의 액적이 홈 내에서 합류하여 자중에 의해 낙하하기 쉽다. The purpose of the present invention is to provide technology for suppressing the soiling of substrates. A substrate processing device comprises a substrate holding unit for holding a substrate horizontally, a processing liquid supply unit for supplying processing liquid toward the substrate held by the substrate holding unit, and a liquid receiving unit that surrounds the substrate holding unit and receives processing liquid which has splashed off of the substrate. The inner peripheral surface of the liquid receiving unit has a plurality of grooves exposed toward the substrate held by the substrate holding unit, and the direction of extension of the plurality of grooves includes vertical-direction components. As a result, droplets of processing liquid readily collect in the grooves and fall due to the weight of the droplets.