광학 회전각 측정 시스템

본 발명은 회전 샤프트(2)를 갖는 회전 가능한 물체의 회전각을 측정하기 위한 광학 시스템에 관한 것으로서, 이 시스템은 상기 샤프트 상에 장착된 반사 회절 소자(6) 및 이 소자를 향해 거의 단색의 빔(bo)을 방출하는 방사선원(8)과 방사선 감응 검출 구조(14, 16)를 포함하는 모듈을 포함하고, 회절 소자는 검출 구조의 일부를 형성하는 환형 격자 구조의 관련된 섹션(50(1)-54(2)) 상에 소정 패턴의 회절 차수 이미지(18)를 투영하도록 구성되며, 회절 소자의 표면 크기는 환형 격자 구조의 표면 크기의 20% 미만이다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: PEKELDER SVEN, GUGGENMOS MARKUS, KIESBAUER BERNHARD, VAN DER KLUIT RINZE FREDERIK, VELZEL CHRISTIAAN H.F, HARTMANN MARTIN
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 회전 샤프트(2)를 갖는 회전 가능한 물체의 회전각을 측정하기 위한 광학 시스템에 관한 것으로서, 이 시스템은 상기 샤프트 상에 장착된 반사 회절 소자(6) 및 이 소자를 향해 거의 단색의 빔(bo)을 방출하는 방사선원(8)과 방사선 감응 검출 구조(14, 16)를 포함하는 모듈을 포함하고, 회절 소자는 검출 구조의 일부를 형성하는 환형 격자 구조의 관련된 섹션(50(1)-54(2)) 상에 소정 패턴의 회절 차수 이미지(18)를 투영하도록 구성되며, 회절 소자의 표면 크기는 환형 격자 구조의 표면 크기의 20% 미만이다. The present invention is directed to an optical system for measuring the rotation angle of rotatable object having a rotation shaft (2), which system comprises a reflective diffraction element (6) mounted on said shaft and a module that includes a radiation source (8) emitting a monochromatic beam (bo) towards this element and a radiation-sensitive detection structure (14, 16), the diffraction element is configured to project diffraction order images (18) of its pattern onto associated sections (50(1)-54(2)) of an annular grating structure forming part of the detection structure and the surface size of the diffraction element is smaller than 20% of the surface size of the annular grating structure.