SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

The present invention relates to a substrate processing device and a manufacturing method for a semiconductor device. The substrate processing device prevents particles from being attached to a wafer when a pod cover is opened and closed. The substrate processing device comprises: a mounting unit mounting a substrate accommodating unit storing a substrate; a guide unit forming a cover opening and closing space opening and closing a cover of the substrate accommodating unit; a gate unit separating the cover opening and closing space from a transfer chamber transferring the substrate between the substrate accommodating unit and a substrate holding unit holding the substrate; a cover opening and closing device installed in the cover opening and closing space and opening and closing the cover of the substrate accommodating unit; a gas inducing device inducing the gas to the substrate accommodating unit installed in the mounting unit; a monitoring unit inducing the gas to the gas accommodating unit by the gas inducing device and increasing the pressure while substituting the gas in the substrate accommodating unit; and a control unit enabling the cover opening and closing device to open the cover of the substrate accommodating unit while maintaining the high pressure in the substrate accommodating unit in comparison with the pressure of the cover opening and closing space in the monitoring unit. 본 발명은 포드 덮개 개폐 시에 파티클이 웨이퍼 상에 부착되는 것을 방지하는 구성을 제공한다. 기판이 수납되는 기판 수용기를 재치하는 재치부; 상기 기판 수용기의 덮개를 개폐하는 덮개 개폐 공간을 구성하는 가이드부; 상기 덮개 개폐 공간을 상기 기판 수용기와 상기 기판이 보지(保持)되는 기판 보지구 사이에서 상기 기판을 반송하는 이재실로부터 분리하는 게이트부; 상기 덮개 개폐 공간에 설치되고, 상기 기판 수용기의 상기 덮개를 개폐하는 덮개 개폐 기구; 상기 재치부에 재치된 기판 수용기에 가스를 도입하는 가스 도입 기구; 상기 가스 도입 기구에 상기 가스를 상기 기판 수용기에 도입시키고, 상기 기판 수용기 내의 가스를 치환하는 것과 함께 압력을 높게 하는 감시부; 및 상기 감시부에 상기 덮개 개폐 공간의 압력보다 상기 기판 수용기 내의 압력을 높게 유지하면서 상기 덮개 개폐 기구에 상기 기판 수용기의 덮개를 열게 하도록 구성되는 제어부;를 구비한 구성이 제공된다.