SYSTEMS AND METHODS FOR VOLUMETRIC METERING ON A SAMPLE PROCESSING DEVICE

샘플 처리 장치 상의 체적 계량을 위한 시스템 및 방법이 개시된다. 시스템은 계량 저장조, 및 선택된 체적을 초과하는 과량의 액체를 계량 저장조로부터 포획하기 위해 계량 저장조의 제1 단부와 유체 연통되도록 위치되는 폐기물 저장조를 포함할 수 있다. 시스템은 요구될 때까지 액체가 계량 저장조에서 유출되는 것을 억제하도록 계량 저장조의 제2 단부와 유체 연통되는 모세관 밸브를 추가로 포함할 수 있다. 방법은 액체를 모세관 밸브 내로 이동시키기에 불충분한 제1 힘을 액체에 가하기 위해 샘플 처리 장치를 회전시킴으로써 액체를 계량하는 단...

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Hauptverfasser: LUDOWISE PETER D, SMITH JEFFREY D, WHITMAN DAVID A
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:샘플 처리 장치 상의 체적 계량을 위한 시스템 및 방법이 개시된다. 시스템은 계량 저장조, 및 선택된 체적을 초과하는 과량의 액체를 계량 저장조로부터 포획하기 위해 계량 저장조의 제1 단부와 유체 연통되도록 위치되는 폐기물 저장조를 포함할 수 있다. 시스템은 요구될 때까지 액체가 계량 저장조에서 유출되는 것을 억제하도록 계량 저장조의 제2 단부와 유체 연통되는 모세관 밸브를 추가로 포함할 수 있다. 방법은 액체를 모세관 밸브 내로 이동시키기에 불충분한 제1 힘을 액체에 가하기 위해 샘플 처리 장치를 회전시킴으로써 액체를 계량하는 단계, 및 계량된 체적의 액체를 모세관 밸브를 통해 프로세스 챔버로 이동시키도록 제1 힘보다 큰 제2 힘을 액체에 가하기 위해 샘플 처리 장치를 회전시키는 단계를 포함할 수 있다. A system and method for volumetric metering on a sample processing device. The system can include a metering reservoir, and a waste reservoir positioned in fluid communication with a first end of the metering reservoir to catch excess liquid from the metering reservoir that exceeds a selected volume. The system can further include a capillary valve in fluid communication with the second end of the metering reservoir to inhibit liquid from exiting the metering reservoir until desired. The method can include metering the liquid by rotating the sample processing device to exert a first force on the liquid that is insufficient to move the liquid into the capillary valve, and rotating the sample processing device to exert a second force on the liquid that is greater than the first force to move the metered volume of the liquid to the process chamber via the capillary valve.