광학 필름의 제조 방법

필름 기재 상에 다층 광학 박막을 형성하는 광학 필름의 제조의 예비 성막에 있어서, 복수의 스퍼터실에 동시에 통전함으로써, 필름 기재 상에 2 이상의 이종 재료의 박막의 적층체를 성막하고, 스퍼터 장치 내에 형성된 광학 측정부 (80) 에서 얻어진 광학 특성으로부터, 복수의 박막의 막 두께를 산출한다. 광학 측정부에서 얻어지는 광학 특성 또는 광학 특성으로부터 산출되는 복수의 박막의 막 두께가 소정 범위 내가 될 때까지, 막 두께의 측정과 박막의 성막 조건의 조정이 반복 실시된다. In a preliminary deposition...

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Hauptverfasser: SAKI SATORU, SHUTO SHUNSUKE
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:필름 기재 상에 다층 광학 박막을 형성하는 광학 필름의 제조의 예비 성막에 있어서, 복수의 스퍼터실에 동시에 통전함으로써, 필름 기재 상에 2 이상의 이종 재료의 박막의 적층체를 성막하고, 스퍼터 장치 내에 형성된 광학 측정부 (80) 에서 얻어진 광학 특성으로부터, 복수의 박막의 막 두께를 산출한다. 광학 측정부에서 얻어지는 광학 특성 또는 광학 특성으로부터 산출되는 복수의 박막의 막 두께가 소정 범위 내가 될 때까지, 막 두께의 측정과 박막의 성막 조건의 조정이 반복 실시된다. In a preliminary deposition for producing an optical film in which multilayered optical thin-film is formed on a film substrate, a plurality of sputtering chambers are simultaneously energized to deposit a stacked body of thin-films made of two or more different materials on the film substrate, and the thicknesses of the plurality of thin-films are calculated from the optical properties obtained by the optical measuring unit (80) equipped in a sputtering apparatus. Measurement of the thicknesses and adjusting the deposition conditions for thin-films are repeated until the optical properties obtained by the optical measurement unit or the thickness of the respective thin-films calculated from the optical properties falls within a prescribed range.