산소를 사용한 염화수소의 광촉매적 산화
본 발명은 산화제로서의 산소를 사용한 기체상 염화수소의 광촉매적 산화에 의해 염소를 제조하는 방법에 관한 것이며, 여기서 반응은 광촉매의 표면 상에서 선택적 에너지 범위의 UV 방사선의 작용에 의해 시작된다. The invention relates to a method for the production of chlorine by means of photocatalytic oxidation of gaseous hydrogen chloride with oxygen as an oxidizing agent, in which the reac...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 본 발명은 산화제로서의 산소를 사용한 기체상 염화수소의 광촉매적 산화에 의해 염소를 제조하는 방법에 관한 것이며, 여기서 반응은 광촉매의 표면 상에서 선택적 에너지 범위의 UV 방사선의 작용에 의해 시작된다.
The invention relates to a method for the production of chlorine by means of photocatalytic oxidation of gaseous hydrogen chloride with oxygen as an oxidizing agent, in which the reaction is started on the surface of a photocatalyst by the action of UV radiation in a selective energy range. |
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