PRODUCING METHOD OF MASK

The present invention relates to a method for manufacturing a mask. According to the present invention, the method for manufacturing a mask (100) by electroforming comprises the steps of: (a) providing a conductive substrate (21); (b) forming an insulation unit (26) patterned on one surface of the conductive substrate (21) to manufacture a mother plate (20); (c) using the mother plate (20) as a cathode body (20), and forming a plating film (100) on a surface of the mother plate (20) by electroforming; (d) performing heat-treatment on the plating film (100); and (e) separating the plating film (100) from the mother plate (20). In the step (c), the plating film (100: 110, 120) is formed on upper and side surfaces of the mother plate (20). 본 발명은 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 마스크의 제조 방법은, 전주 도금(Electroforming)으로 마스크(100)를 제조하는 방법으로서, (a) 전도성 기재(21)를 제공하는 단계, (b) 전도성 기재(21)의 일면 상에 패턴화(26)된 절연부(26)를 형성하여 모판(Mother Plate; 20)을 제조하는 단계, (c) 모판(20)을 음극체(Cathode Body; 20)로 사용하고, 전주 도금(Electroforming)으로 모판(20) 표면 상에 도금막(100)을 형성하는 단계, (d) 도금막(100)을 열처리(H)하는 단계, 및 (e) 모판(20)으로부터 도금막(100)을 분리하는 단계를 포함하고, (c) 단계에서, 모판(20)의 상부면 및 측면 상에 도금막(100: 110, 120)을 형성하는 것을 특징으로 한다.