Dry film resist abrasive sheet abrasive sheet manufacturing apparatus and method
The present invention relates to a dry film resist, an abrasive sheet, an abrasive sheet manufacturing apparatus and a method thereof. According to an embodiment of the present invention, provided is the dry film resist having an abrasive particle that has a particle size of 0.1-100 um. Moreover, ac...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a dry film resist, an abrasive sheet, an abrasive sheet manufacturing apparatus and a method thereof. According to an embodiment of the present invention, provided is the dry film resist having an abrasive particle that has a particle size of 0.1-100 um. Moreover, according to the present invention, as the abrasive sheet is manufactured with a photolithography method, a mask can be manufactured and changed in a short time at very low costs compared to conventionally manufacturing and changing a mold.
본 발명은 드라이 필름 레지스트, 연마시트, 연마시트 제조장치 및 그 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 0.1 내지 100um의 입도를 갖는 연마입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트가 제공될 수 있다. 또한 본 발명은 포토리소그래피 방식으로 연마시트를 제조하기 때문에, 종래에 몰드(금형)를 제작 및 변경하는 것과 비교하여 매우 저렴한 비용으로 짧은 시간에 마스크를 제작 및 변경할 수 있다. |
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