SUBSTRATE STAND DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

The present invention relates to a substrate stand and a substrate processing apparatus having the same. The substrate processing apparatus comprises: a stand on which a substrate is supported; a carrier head loading the substrate on the stand; and an aligning unit provided on the stand, linked by a push member pressurized by the carrier head, and aligning the substrate on the stand. Therefore, the substrate can be accurately loaded without being modified or being damaged during a process of loading the substrate on the carrier head. 본 발명은 기판 거치대 및 이를 구비한 기판 처리 장치에 관한 것으로, 기판 처리 장치는, 기판이 거치되는 거치대와, 거치대에서 기판을 로딩하는 캐리어 헤드와, 거치대에 마련되며 캐리어 헤드에 의해 가압되는 푸시부재에 의하여 연동되며 거치대의 기판을 정렬시키는 얼라인부를 포함하는 것에 의하여, 기판을 캐리어 헤드에 로딩하는 과정에서 기판의 변형 및 손상없이 정확하게 로딩하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.