CONCENTRATION CONTROL DEVICE FOR DEVELOPING SOLUTION AND SUBSTRATE DEVELOPING SYSTEM

The objective of the present invention is to provide a developer concentration management device which is optimal for managing a developer used for developing a substrate in an optimal condition; and a substrate developing system. To achieve the purpose, a substrate processing system includes: the developer concentration management device (B); a developing device (A); a compounding device (E) compounding a new solution of a developer; and a reproducing device (F) reproducing a used developer. The developer concentration management device (A) measures matter properties or component concentration of the developer of the developing device (B), and supplies an undiluted solution, a new solution, or a reproduced solution of the developer to manage the developer at an optimal concentration. A supplemented solution is measured through integration flowmeters (151, 152, 153, 154, 155) installed on a pipe. Based on the integration flowrate of the supplemented solution, measured through the integration flowmeters (151, 152, 153, 154, 155), charges for the concentration management of the developer or the development of the substrate are able to be calculated. 본 발명은, 기판의 현상에 사용되는 현상액을 최적인 상태로 관리하는 역무에 최적인 현상액의 농도 관리 장치 및 기판의 현상 처리 시스템을 제공하는 것을 과제로 한다. 이러한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 기판 처리 시스템은, 현상액의 농도 관리 장치(B), 현상 처리 장치(A), 현상액의 신액을 조제하는 조제 장치(E), 사용 후의 현상액을 재생하는 재생 장치(F)가, 배관으로 접속되어 있다. 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 현상 처리 장치(B)의 현상액의 물성 또는 성분 농도를 측정하고, 현상액의 원액이나 신액, 재생액을 공급하여, 현상액을 최적인 농도로 관리한다. 공급된 보충액은, 배관에 설치된 적산 유량계(151, 152, 153, 154, 155)에 의해 계측된다. 적산 유량계(151, 152, 153, 154, 155)에 의해 계측된 보충액의 적산 유량에 의거하여, 현상액의 농도 관리의 요금, 또는, 기판의 현상 처리 요금의 산출이 가능해진다.