CHEMICAL SOLUTION MANAGEMENT SYSTEM FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS CALCULATION METHOD OF CHEMICAL SOLUTION MANAGEMENT CHARGE FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND CHEMICAL SOLUTION MANAGEMENT CHARGE CALCULATION SYSTEM FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
An objective of the present invention is to provide a chemical solution management system for a substrate processing apparatus, which is optimal to a service of managing a chemical solution used in manufacturing a substrate in an optimal condition, a calculation method of a chemical solution managem...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | An objective of the present invention is to provide a chemical solution management system for a substrate processing apparatus, which is optimal to a service of managing a chemical solution used in manufacturing a substrate in an optimal condition, a calculation method of a chemical solution management charge for the substrate processing apparatus, and a chemical solution management charge calculation system for the substrate processing apparatus. To achieve the objective, the chemical solution management system of the present invention comprises: a chemical solution preparation device which prepares a new solution of a chemical solution; a chemical solution recycling device which recycles a used chemical solution; and other devices, wherein the substrate processing apparatus, the chemical solution preparation device, the chemical solution recycling device, and the other devices are connected by pipes having integrating flow meters. The chemical solution management system further comprises a concentration management device which always manages the chemical solution to an optimal concentration by measuring concentration of the chemical solution of the substrate processing apparatus and supplementing an undiluted solution or new solution of the chemical solution, and a recycled solution. Flow rate integration of a supplied supplemented solution is measured by the integrating flow meters, and the integrating flow meters is directly connected to a network.
본 발명은 기판의 제조에 사용되는 약액을 최적의 상태로 관리하는 역무에 최적한 기판 처리 장치의 약액 관리 시스템, 기판 처리 장치의 약액 관리 요금 산출 방법, 및, 기판 처리 장치의 약액 관리 요금 산출 시스템을 제공하는 것을 과제로 한다. 이러한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 기판 처리 장치의 약액 관리 시스템은 기판 처리 장치와, 약액의 신액을 조제하는 약액 조제 장치, 사용후의 약액을 재생하는 약액 재생 장치 등이, 적산 유량계를 구비하는 배관에 의해 접속되어 있다. 농도 관리 장치는 기판 처리 장치의 약액의 농도를 측정하고, 약액의 원액이나 신액, 재생액을 보충하여, 약액을 항상 최적의 농도로 관리한다. 공급된 보충액의 적산 유량은 적산 유량계에 의해 계측된다. 적산 유량계가 네트워크에 직접 접속된다. |
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