박막 코팅을 적용하기 위한 진공 플랜트 및 상기 진공 플랜트로 광학 코팅을 적용하기 위한 방법

본 발명의 그룹은 진공 프로세스 플랜트 및 특정 광학 특성을 갖는 박막 코팅을 적용하기 위한 방법에 관한 것이다. 상기 진공 플랜트는, 이송 시스템에 부착되고 로드-록 챔버 내에 수직으로 배치된 드럼식 기판 홀더와 함께, 또는 드럼식 기판 홀더 없이 이동하고, 프로세스 챔버 아래에 위치된 수평의 고-진공 게이트를 통해 프로세스 챔버에 연결되도록 구성된, 로드-록 챔버를 포함한다. 박막 광학 코팅의 적용은 고-밀도 플라즈마의 화학적 증착에 의해 프로세스 챔버의 작동 구역에서 수행되며, 여기서 코팅을 적용하기 위한 플라즈마 생성 시스템이 사용되며, 여기서 유도 결합형 플라즈마 소스는 수직축을 따라 위치되며, 작동 공간은 고-진공 펌핑 시스템과 차폐물에 의해 작동 구역으로 구분된다. 장치의 공간 절약 배치 및 다양한 유형 요소로 된 가요성 및 고체 기판상에 높은 가용성의 박막 광학 코팅을 적용하는 고성능 및 경제적 방법의 구현이 가능하다. The group of inventions relates to a vacuum process assembly and to a method for applying thin-film coatings having given optical characteristics to same. The indicated vacuum assembly includes an airlock chamber which is affixed to a transport system and which is capable of moving with a vertically-disposed drum-type substrate-holder inside same or without same, and of docking with a process chamber by means of a horizontal high-vacuum shutter located under the process chamber. The application of thin-film optical coatings is carried out in working zones of the process chamber by means of chemical deposition in high-density plasma, wherein, the application of coatings involves a plasma generation system in which sources of induction discharge are disposed along a vertical axis, and the working space is divided into working zones by means of high-vacuum pumping means and protective screens. The invention allows for the compact disposition of equipment and for a high-performance and economical method of applying thin-film optical coatings, having high consumer properties, onto flexible and solid substrates of various types and dimensions.