조명 시스템 및 계측 시스템

계측 장치용 조명 시스템 및 이러한 조명 시스템을 포함하는 계측 장치가 개시된다. 조명 시스템은 조명 소스; 및 상기 조명 소스로부터의 방사선 빔을 필터링하도록 구성되고 하나 이상의 선형 가변 필터를 포함하는 선형 가변 필터 배열체를 포함한다. 조명 시스템은 방사선 빔이 선형 가변 필터 배열체에 의해 필터링된 후에 방사선 빔의 파장 특성의 선택적 제어를 가능하게 하도록 동작가능하다. Disclosed is an illumination system for a metrology apparatus and a metrology appara...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SIJBEN ANKO JOZEF CORNELUS, DE WIT JOHANNES MATHEUS MARIE, MAASSEN MARTINUS GERARDUS MARIA JOHANNES, FEIJEN KIM GERARD, VAN DE GROES HENRICUS MARTINUS JOHANNES
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MATERIALS THEREFOR MEASURING OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	계측 장치용 조명 시스템 및 이러한 조명 시스템을 포함하는 계측 장치가 개시된다. 조명 시스템은 조명 소스; 및 상기 조명 소스로부터의 방사선 빔을 필터링하도록 구성되고 하나 이상의 선형 가변 필터를 포함하는 선형 가변 필터 배열체를 포함한다. 조명 시스템은 방사선 빔이 선형 가변 필터 배열체에 의해 필터링된 후에 방사선 빔의 파장 특성의 선택적 제어를 가능하게 하도록 동작가능하다. Disclosed is an illumination system for a metrology apparatus and a metrology apparatus comprising such an illumination system. The illumination system comprises an illumination source; and a linear variable filter arrangement configured to filter a radiation beam from said illumination source and comprising one or more linear variable filters. The illumination system is operable to enable selective control of a wavelength characteristic of the radiation beam subsequent to it being filtered by the linear variable filter arrangement.