SURFACE TREATMENT LIQUID SURFACE TREATMENT METHOD HYDROPHOBILIZATION METHOD AND HYDROPHOBILIZED SUBSTRATE

기판의 소수화 처리를 간편하고 효율적으로 실현할 수 있고, 또는 수지 패턴이나 피에칭 패턴의 패턴 붕괴를 효과적으로 방지할 수 있는 표면 처리액 및 그 표면 처리액을 사용한 표면 처리 방법, 그리고 그 표면 처리액을 사용한 소수화 처리 방법 및 소수화된 기판을 제공한다. 기판의 소수화 처리시에는, 실릴화제와, 탄화수소계 비극성 용제를 함유하는 표면 처리액을 기판에 도포한다. 또, 패턴 붕괴의 방지시에는, 실릴화제 및 용제를 함유하는 표면 처리액을 사용하여, 기판 상에 형성된 수지 패턴, 또는 에칭에 의해 기판에 형성된 피에칭 패턴의...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KOSHIYAMA JUN, WAKIYA KAZUMASA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ADHESIVES APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE MATERIALS THEREFOR METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORIGINALS THEREFOR PAINTS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS POLISHES SEMICONDUCTOR DEVICES
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