위치 측정 방법, 리소그래피 장치, 리소 셀 및 디바이스 제조 방법

광학계를 이용하여 기판 상의 적어도 하나의 정렬 타겟의 위치를 측정하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 상기 서브 세그먼트화 된 타겟을 방사선으로 조명하고 상기 서브 세그먼트화 된 타겟의 위치 정보를 포함하는 신호를 얻기 위해 하나 이상의 검출기를 사용하여 상기 서브 세그먼트화 된 타겟에 의해 회절된 방사선을 검출함으로써 적어도 하나의 서브 세그먼트화 된 타겟을 측정하는 단계를 포함한다. 서브 세그먼트화 된 타겟은 적어도 제 1 방향으로 주기적으로 배열된 구조들을 포함하고, 상기 구조들 중 적어도 일부는 더 작은 서브 구조들을 포함하며, 각각의 서브 세그먼트화 된 타겟은 공지의 성분과 미지의 성분의 조합인 구조 및 서브 구조 사이의 위치 오프셋으로 형성된다. 상기 신호는 서브 세그먼트화 된 타겟의 공지의 오프셋들 간의 차이에 관한 정보와 함께 상기 위치 오프셋의 상기 미지 성분에 대해 보정 된 적어도 하나의 정렬 타겟의 측정 된 위치를 계산하는데 사용된다. A method of measuring a position of an alignment target on a substrate using an optical system. The method includes measuring a sub-segmented target by illuminating the sub-segmented target with radiation and detecting radiation diffracted by the sub-segmented target using a detector system to obtain signals containing positional information of the one sub-segmented target. The sub-segmented target has structures arranged periodically in at least a first direction, at least some of the structures including smaller sub-structures, and each sub-segmented target is formed with a positional offset between the structures and the sub-structures that is a combination of both known and unknown components. The signals, together with information on differences between known offsets of the sub-segmented target are used to calculate a measured position of an alignment target which is corrected for the unknown component of the positional offset.