Method and Apparatus for treating substrate

An embodiment of the present invention relates to a method for treating a substrate with a liquid and an apparatus thereof. The method comprises: a pretreatment step of supplying a tratment liquid including hydrogen fluoride (HF) to a substrate to treat the substrate; and a surface modification step of supplying alkene-based chemical on the substrate for changing a surface of the substrate to have hydrophobicity. As a result, the surface of the substrate is uniform, and occurrence of a particle can be reduced when the alkene-based chemical is removed. 본 발명의 실시예는 기판을 액 처리하는 방법 및 장치를 제공한다. 기판 처리 방법은 불화수소(HF)를 포함하는 처리액을 상기 기판으로 공급하여 상기 기판을 처리하는 전처리 단계 및 알켄(alkene) 계열의 케미칼을 기판 상으로 공급하여 상기 기판의 표면을 소수성으로 변화하는 표면 개질 단계를 포함한다. 이로 인해 기판의 표면은 균일하며, 이를 제거 시 파티클의 발생을 줄일 수 있다.