LIGHT SINTERING APPARATUS

The present invention provides a light sintering device capable of suppressing a thermal shock applied to a silicon substrate and film property degradation of films formed on the silicon substrate. According to an embodiment of the present invention, the light sintering device comprises: a substrate...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JEONGKYU KIM, ILHYOUNG JUNG, HYUNHO KIM, YUJU HWANG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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