LIGHT SINTERING APPARATUS

The present invention provides a light sintering device capable of suppressing a thermal shock applied to a silicon substrate and film property degradation of films formed on the silicon substrate. According to an embodiment of the present invention, the light sintering device comprises: a substrate transport part transferring a processed substrate in which an electrode pattern is formed; a plurality of lamps located on the upper part of the substrate transport part, and outputting light; at least one reflection plate reflecting the light output from the plurality of lamps toward the processed substrate; at least one light filter located on the lower part of the plurality of lamps; and a mask having a light transmission pattern which is the same as the electrode pattern and a light blocking pattern which is the remaining region except for the light transmission pattern, and allowing the light to be incident on the electrode pattern through the light transmission pattern. 본 발명의 한 측면에 따른 광 소결 장치는 전극 패턴이 형성된 피처리 기판을 이송하는 기판 이송부; 기판 이송부 상부에 위치하며, 광을 출력하는 복수의 램프; 복수의 램프로부터 출력되는 광을 피처리 기판 쪽으로 반사하는 적어도 1개의 반사판; 복수의 램프 하부에 배치되는 적어도 1개의 광 필터; 및 전극 패턴과 동일한 광 투과 패턴과, 광 투과 패턴을 제외한 나머지 영역의 광 차단 패턴을 구비하며, 광이 광 투과 패턴을 통해 전극 패턴에 입사되도록 하는 마스크를 포함한다.