Plasma reactor power division system and power division method using the same

The present invention relates to a remote plasma chamber power distributing system and a power distributing method using the same and, more specifically, to a remote plasma chamber power distributing system and a power distributing method using the same capable of supplying RF power to a plurality of remote plasma chambers. Disclosed is the remote plasma chamber power distributing system comprising a plurality of process chambers (100), a gas supplying unit, a plurality of remote plasma chambers (200), a power distributing unit (300), and a controlling unit (500). The plurality of process chambers (100) include a processing space (S) for processing a substrate inside. The gas supplying unit supplies gas to the processing space (S). The plurality of remote plasma chambers (200) are installed to correspond to each process chamber (100), and supply activated gas to insides of the process chambers (100). The power distributing unit (300) branches the RF power to the plurality of remote plasma chambers (200) from a single power supplying unit (10), and supplies the same. The controlling unit (500) controls distribution of the power supplied to the remote plasma chambers (200) from the power distributing unit (300). 본 발명은 원격플라즈마 챔버 전력분기시스템 및 이를 이용한 전력분기방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 복수의 원격플라즈마 챔버에 RF 전력을 공급하는 원격플라즈마 챔버 전력분기시스템 및 이를 이용한 전력분기방법에 관한 것이다. 본 발명은, 내부에 기판을 처리하기 위한 처리공간(S)을 갖는 복수의 공정챔버(100)들과; 상기 처리공간(S)으로 가스를 공급하기 위한 가스공급부와; 상기 복수의 공정챔버(100)들 각각에 대응되도록 설치되며 상기공정챔버(100) 내부로 활성화된 가스를 공급하기 위한 복수의 원격플라즈마 챔버(200)들과; 단일 전원공급부(10)로부터 상기 복수의 원격플라즈마 챔버(200)로 RF 전력을 분기하여 공급하기 위한 전력분배부(300)와; 상기 전력분배부(300)에서 상기 원격플라즈마 챔버(200)로 공급되는 전력의 분배를 제어하기 위한 제어부(500)를 포함하는 것을 특징으로 하는 원격플라즈마 챔버 전력분배시스템을 개시한다