감광성 수지용 스트리핑 용매

본 발명은 다음의 용매: (51) 화학식 ROOC-A-CONRR의 적어도 1 종의 에스테르 아미드 화합물을 포함하는 용매, (52) DMSO, (53) 시클로펜타논 중 적어도 2 종을 포함하는 용매 혼합물의 포토레지스트 스트리핑 용매로서의 용도에 관한 것이다. The present invention relates to the use, as a photoresist stripping solvent, of a solvent mixture including at least two of the following solvents: (51)...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	BOURDETTE ARNAUD
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 다음의 용매: (51) 화학식 ROOC-A-CONRR의 적어도 1 종의 에스테르 아미드 화합물을 포함하는 용매, (52) DMSO, (53) 시클로펜타논 중 적어도 2 종을 포함하는 용매 혼합물의 포토레지스트 스트리핑 용매로서의 용도에 관한 것이다. The present invention relates to the use, as a photoresist stripping solvent, of a solvent mixture including at least two of the following solvents: (51) a solvent including at least one ester amide compound of formula R1OOC-A-CONR2R3, (52) DMSO, (53) cyclopentanone.