A METHOD FOR APPLYING AND EXPOSING COATING OR INK COMPOSITIONS ON SUBSTRATES TO RADIATION AND THE PRODUCTS THEREOF

본 발명은 비다공성 기재에 코팅 또는 잉크조성물을 인가하는 단계를 포함하는 두-측면 방사선 노출방법을 기술한다. 비다공성 기재에 인가된 코팅 또는 잉크조성물 표면은 1회 이상 방사선에 노출된다. 또한, 비다공성 기재의 비-인가 표면이 1회 이상 방사선에 노출된다. 두-측면 방사선 노출방법은 비다공성 기재에 인가된 코팅 또는 잉크조성물의 부착특성 및/또는 경화특성을 개선시킨다. 또한 본 발명은 상기 방법에 의해 생성되는 표면에 코팅 또는 잉크조성물이 인가되는 방사선 노출 비다공성 기재를 기재한다. The present inventio...

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Hauptverfasser:	ZHANG YUEMEI, ADHIKARI PRASAD K
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL COLOUR PRINTING CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME LINING MACHINES PERFORMING OPERATIONS PRINTING PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL SELECTIVE PRINTING MECHANISMS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL STAMPS TRANSPORTING TYPEWRITERS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 비다공성 기재에 코팅 또는 잉크조성물을 인가하는 단계를 포함하는 두-측면 방사선 노출방법을 기술한다. 비다공성 기재에 인가된 코팅 또는 잉크조성물 표면은 1회 이상 방사선에 노출된다. 또한, 비다공성 기재의 비-인가 표면이 1회 이상 방사선에 노출된다. 두-측면 방사선 노출방법은 비다공성 기재에 인가된 코팅 또는 잉크조성물의 부착특성 및/또는 경화특성을 개선시킨다. 또한 본 발명은 상기 방법에 의해 생성되는 표면에 코팅 또는 잉크조성물이 인가되는 방사선 노출 비다공성 기재를 기재한다. The present invention describes a two-sided radiation exposure method including a step of applying a coating or ink composition on a surface of a nonporous substrate. The applied coating or ink composition surface of the nonporous substrate is exposed to radiation one or more times. In addition, a non-applied surface of the nonporous substrate is exposed to radiation one or more times. The two-sided radiation exposure method improves adhesion and/or curing properties of the coating or ink composition applied on the nonporous substrate. The present invention also describes a radiation exposed, nonporous substrate with a coating or ink composition applied on a surface thereof produced by the steps of the above-mentioned method.