이온 에너지 분포를 위한 RF 파형 맞춤화에 의한 피드백 제어

본 발명은, 플라즈마 챔버와 같은 부하에 전력을 인가하는 RF 전력 공급부들로서, 마스터 전력 공급부 및 슬레이브 전력 공급부를 포함하는 RF 전력 공급부들을 제어하는 시스템에 관한 것이다. 마스터 전력 공급부는 주파수 및 위상 신호와 같은 제어 신호를 슬레이브 전력 공급부에 제공한다. 슬레이브 전력 공급부는 주파수 및 위상 신호를 수신하고 부하로부터 감지된 스펙트럼 방사의 신호 특성도 수신한다. 슬레이브 RF 전력 공급부는 부하에 인가되는 RF 출력 신호의 위상 및 전력을 변화시킨다. 전력을 변화시키는 것은 이온 분포 기능의 폭을 제어하고, 위상을 변화시키는 것은 이온 분포의 피크를 제어한다. RF 생성기와 부하 사이의 커플링에 따라, 제1 고조파, 제2 고조파, 및 이중 주파수 드라이브 시스템의 경우에는 상호 변조 왜곡을 포함하여 상이한 스펙트럼 방사가 검출된다. A system for controlling RF power supplies applying power to a load, such as a plasma chamber, includes a master power supply and a slave power supply. The master power supply provides a control signal, such as a frequency and phase signal, to the slave power supply. The slave power supply receives the frequency and phase signal and also receives signals characteristic of the spectral emissions detected from the load. The slave RF power supply varies the phase and power of its RF output signal applied to the load. Varying the power controls the width of an ion distribution function, and varying the phase controls a peak of the ion distribution. Depending upon the coupling between the RF generators and the load, different spectral emissions are detected, including first harmonics, second harmonics, and, in the case of a dual frequency drive system, intermodulation distortion.