N- METHOD FOR PREPARATION OF N-BUTYL NITRITE

본 발명은 연속 방식으로의 n-부탄올, 산 및 NaNO의 반응을 포함하는, 낮은 n-부탄올 함량의 n-부틸 나이트라이트의 연속 제조 방법으로서, n-부탄올, 산 및 NaNO가 적어도 1 bar 의 압력 강하를 제공하는 혼합 장치에서 혼합되고; 산이 HCl, HSO, 포름산, 메탄술폰산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고; HCl 의 양은 n-부탄올의 몰량을 기준으로 적어도 1.02 몰 당량인 n-부틸 나이트라이트의 연속 제조 방법을 개시한다. The invention discloses a method for the c...

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Hauptverfasser: ARNOLD CLAUDIO, BITTEL MICHAEL, TILLE STEFAN, SCHNYDRIG KILIAN, VENETZ MARTIN, GARMS STEFAN, MAYERHOEFFER ULRICH, KALBERMATTEN ROLF, RABOUD GUY, TAESCHLER CHRISTOPH, FAVRE MANUEL, EGGEL THOMAS, GIRARD CHRISTOPHE, SCHNIDER CHRISTIAN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 연속 방식으로의 n-부탄올, 산 및 NaNO의 반응을 포함하는, 낮은 n-부탄올 함량의 n-부틸 나이트라이트의 연속 제조 방법으로서, n-부탄올, 산 및 NaNO가 적어도 1 bar 의 압력 강하를 제공하는 혼합 장치에서 혼합되고; 산이 HCl, HSO, 포름산, 메탄술폰산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고; HCl 의 양은 n-부탄올의 몰량을 기준으로 적어도 1.02 몰 당량인 n-부틸 나이트라이트의 연속 제조 방법을 개시한다. The invention discloses a method for the continuous preparation of n-butyl nitrite with a low content of n-butanol comprising the reaction of n-butanol, an acid and NaNO2 in a continuous way, in which the n-butanol, an acid and NaNO2 are mixed in a mixing device which provides for a pressure drop of at least 1 bar; the acid is selected from the group consisting of HCI, H2SO4, formic acid, methanesulfonic acid, and mixtures thereof; and the amount of HCI is at least 1.02 molar equivalent based on the molar amount of n-butanol.