분말 코팅 장치

본 발명은, 불순물의 혼입이 없고, 자유롭게 선택된 원소를 조합한 박막을 성막 가능하고, 얻어진 박막의 조성이 균일한 것을 만족하는 분말 코팅 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에 관한 분말 코팅 장치는, 배럴(3)과, 배럴 내를 진공 흡인하는 배기 수단(4)과, 배럴 내에 설치된 스퍼터링 장치(2)를 갖고, 배럴은, 주축(C)이 수평 방향을 향하고, 또한, 주축을 중심으로 회전하고, 스퍼터링 장치는, 배럴에 넣어진 분말(7)의 표면에 코팅막을 형성하는 분말 코팅 장치(100)에 있어서, 스퍼터링 장치는 2개 이상의 타겟(2)을 취부하기 위해서, 타겟 1개에 대해서 고정부(10)를 1개 갖고, 고정부에 타겟을 취부하였을 때에, 각 타겟은, 주축의 방향에 대해서 동일 수준 위치에 서로 병렬로 배치되어 있다. An object of the present invention is to provide a powder coating apparatus which can form a thin film in which freely selected elements are combined without an impurity being mixed and satisfies that a composition of the obtained thin film is uniform. The powder coating apparatus according to the present invention is a powder coating apparatus 100 including a barrel 3, exhaust means 4 for evacuating an inside of the barrel, and a sputtering device 2 installed inside the barrel, the barrel having a main axis C directed in a horizontal direction and rotating around the main axis, the sputtering device forming a coating film on a surface of powder 7 put in the barrel, in which the sputtering device has one fixing portion 10 for one target to mount two or more targets 6, and respective targets are disposed in parallel to each other at the same level position with respect to a direction of the main axis when the target is mounted on the fixing portion.