PLASMA TREATMENT APPARATUS

The present invention relates to a plasma treatment apparatus. The plasma treatment apparatus according to one embodiment of the present invention includes: a plasma generating unit generating plasma; a gas supply unit supplying source gas for generating plasma to the plasma generating unit; a path...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHOI, JEONG HAE, CHOI, BYULBORA, SONG, YEON SUK, LEE, HYUN YOUNG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a plasma treatment apparatus. The plasma treatment apparatus according to one embodiment of the present invention includes: a plasma generating unit generating plasma; a gas supply unit supplying source gas for generating plasma to the plasma generating unit; a path providing unit providing a path through which the plasma generating unit moves on a body unit; and a driving unit moving the plasma generating unit along the path providing unit. 본 발명은 플라즈마 치료 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 치료 장치는, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부; 상기 플라즈마 발생부에 플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스를 공급하는 가스 공급부; 체부 위에 상기 플라즈마 발생부가 이동하는 경로를 제공하는 경로 제공부; 및 상기 플라즈마 발생부를 상기 경로 제공부를 따라 이동시키는 구동부를 포함할 수 있다.