OXIDE SINTERED COMPACT

실질적으로 인듐, 주석, 마그네슘 및 산소로 이루어지고, 주석이 Sn/(In ＋ Sn ＋ Mg) 의 원자수 비로 5 ∼ 15 ％ 의 비율, 마그네슘이 Mg/(In ＋ Sn ＋ Mg) 의 원자수 비로 0.1 ∼ 2.0 ％ 의 비율로 함유되어 있고, 잔부가 인듐 및 산소로 이루어지는 소결체로서, 상기 소결체의 표면 조도 Ra 가 0.3 ∼ 0.5 ㎛ 일 때의 항절 강도가 140 ㎫ 이상인 것을 특징으로 하는 산화물 소결체. 성막시에 타깃 균열이나 파티클 발생을 저감시킬 수 있음과 함께, 비정질 안정성이나 내구성이 우수한 박막을 형성할 수 있는 스퍼터링 타깃용 산화물 소결체를 제공하는 것을 과제로 한다. An oxide sintered body substantially formed from indium, tin, magnesium and oxygen, wherein tin is contained at a ratio of 5 to 15% in terms of an atomic ratio of Sn/(In+Sn+Mg), magnesium is contained at a ratio of 0.1 to 2.0% in terms of an atomic ratio of Mg/(In+Sn+Mg), and remainder being indium and oxygen, and wherein a flexural strength of the oxide sintered body is 140 MPa or more when a surface roughness Ra of the oxide sintered body is 0.3 to 0.5 μm. Provided is an oxide sintered body for use as a sputtering target capable of reducing target cracking and particle generation during deposition, and capable of forming a thin film which exhibits superior amorphous stability and durability.