Horizontal Type Scrubber to remove waste gases by combination of gas-liquid contact device with multi function

The present invention relates to a scrubber for treating waste gas by a multi-layer gas-liquid contact means assembly in which a plurality of unit gas-liquid contact means with different gas-liquid contact functions are combined to be suitable for treatment of waste gas discharged in a semiconductor manufacturing process. In the present invention, an optimized gas-liquid contact combination assembly is applied to be suitable for treatment of waste gas (G) at a low concentration (less than 50 ppm) discharged in a semiconductor manufacturing process to exhibit an action effect of improving the gas treatment efficiency of the scrubber, and since there is an advantage capable of easily mounting and replacing the gas-liquid contact means assembly, it is simple to regenerate and reuse the layer gas-liquid contact means, thereby reducing expenses required for maintenance of the scrubber. 본 발명은 반도체 제조공정에서 배출하는 폐가스 처리에 적합하도록 기액접촉 기능이 상이한 단위 기액접촉수단을 복수개 조합한 다층의 기액접촉수단 조합체에 의해 폐가스를 처리하는 스크러버에 관한 것이다. 상기한 본 발명은 반도체 제조공정에서 배출하는 저농도(50ppm 미만)의 폐가스(G) 처리에 적합하도록 최적화된 기액접촉수단 조합체를 적용함으로써 스크러버의 가스처리 효율을 향상시키는 작용효과를 나타내며, 기액접촉수단 조합체를 간편하게 장착 및 교체할 수 있는 장점이 있으므로 기액접촉수단 조합체을 재생하여 재사용하는 것이 간편하여 스크러버의 유지 및 관리에 따른 소요경비도 감소되는 장점이 있다.