a coating composition for anti-reflection

The present invention relates to a coating composition for antireflection and a manufacturing method of a porous antireflection film, and more specifically, to the coating composition for antireflection comprising polysilazane, a surfactant and a solvent, and the manufacturing method of the porous antireflection film from the coating composition for antireflection. The present invention may provide the coating composition for antireflection which is capable of lowering a refractive index and reflectivity of a porous silica film and is capable of increasing transmittance of the porous silica film. Further, the present invention may provide the manufacturing method of the porous antireflection film, the manufacturing method which enables the porous antireflection film to be stably used in a solar cell, a polarizing plate, a liquid crystal display device, a lens and the like for a long time by using polysilazane with excellent hardening properties at low temperatures, thereby obtaining the porous antireflection film with excellent hardness, durability, adhesive strength, transmittance and the like. 본 발명은 반사방지용 코팅 조성물 및 기공성 반사방지막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폴리실라잔, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅 조성물 및 이로부터 기공성 반사방지막을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 기공성 실리카 막의 굴절율과 반사율을 낮추고 투과율을 증가시킬 수 있는 반사방지용 코팅 조성물을 제공할 수 있다. 또한 본 발명은 저온 경화특성이 우수한 폴리실라잔을 사용함으로써 경도, 내구성, 접착력, 투과율 등이 우수하여 태양전지, 편광판, 액정표시장치, 렌즈 등에 장기간 안정적으로 사용될 수 있는 기공성 반사방지막의 제조방법을 제공할 수 있다.