초점 감응성 오버레이 타겟을 이용한 초점 결정용 시스템 및 방법

리소그래피 마스크가 개시된다. 리소그래피 마스크는 적어도 하나의 비대칭 분할 패턴 엘리먼트를 포함한다. 특정한 비대칭 분할 패턴 엘리먼트는, 연속하는 세그먼트 사이의 이격 간격이 특정한 비대칭 분할 패턴 엘리먼트의 이미지가 비분할 패턴 이미지이도록 샘플 상에 특정한 비대칭 분할 패턴 엘리먼트의 이미지를 생성하기 위한 투영 광학장치의 세트의 해상도보다 더 작은 적어도 두 개의 세그먼트를 포함한다. 샘플 상의 비분할 패턴 이미지의 위치는, 투영 광학장치의 세트의 광학 축을 따른 샘플의 위치를 나타낸다. A lithography mask is disclosed. The lithography mask includes at least one asymmetric segmented pattern element. A particular asymmetric segmented pattern element includes at least two segments with a separation distance between consecutive segments smaller than a resolution of a set of projection optics for generating an image of the particular asymmetric segmented pattern element on a sample such that the image of the particular asymmetric segmented pattern element is an unsegmented pattern image. A position of the unsegmented pattern image on the sample is indicative of a location of the sample along an optical axis of the set of projection optics.