SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS METHOD OF CLEANING SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM

The present invention relates to a substrate processing device, a washing method for a substrate processing device, and a recording medium. The purpose of the present invention is to wash a protrusion unit of a cut body of a liquid receiving cup without a stain. Either a first cut body (51) or a second cup body (52) is lifted, so that the two are in a neighboring state. A first gap (G1) between the upper surface of a second protrusion unit (5202) and a gap forming unit (5106) formed on the lower surface of a first protrusion unit (5102) is smaller than a second gap (G2) between the upper surface of the second protrusion unit and a part in which there is no gap forming unit of the first protrusion unit. A washing liquid is supplied to the second gap. As the flow of the washing liquid to flow to the outer side in a radial direction is limited by the narrow first gap, a whole area of a space between the first protrusion unit and the second protrusion unit can be filled with the washing liquid. So, a surface to be washed can be washed without the strain. 본 발명은 액 받이컵의 컵체의 돌출부를 얼룩 없이 세정하는 것을 과제로 한다. 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52) 중 어느 한쪽을 승강시켜 양자를 근접 상태로 한다. 이때, 제1 돌출부(5102)의 하면에 형성된 간극 형성부(5106)와 제2 돌출부(5202)의 상면 사이의 제1 간극(G1)이, 제1 돌출부의 간극 형성부가 없는 부분과 제2 돌출부의 상면 사이의 제2 간극(G2)보다 작다. 이 상태로, 제2 간극에 세정액을 공급한다. 반경 방향 외향으로 흐르고자 하는 세정액의 움직임이 좁은 제1 간극에 의해 제한되기 때문에, 제1 돌출부와 제2 돌출부 사이의 공간의 전역을 세정액으로 채울 수 있어, 세정 대상면을 얼룩 없이 세정할 수 있다.