Gas Treatment System and Vessel having the same
A gas treatment system according to one embodiment of the present invention comprises: a plurality of evaporation gas compressors for compressing evaporative gas; a first support plate for supporting at least one of the evaporation gas compressors; a second support plate provided at the top of the f...
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Hauptverfasser: | , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | A gas treatment system according to one embodiment of the present invention comprises: a plurality of evaporation gas compressors for compressing evaporative gas; a first support plate for supporting at least one of the evaporation gas compressors; a second support plate provided at the top of the first support plate and supporting the rest of the evaporation gas compressors; and a separation member for separating the second support plate from the evaporation gas compressor supported by the first support plate to the top thereof, thereby capable of effectively supplying liquefied gas and/or evaporation gas from a liquefied gas storage tank to a demand.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템은, 증발가스를 압축하는 복수 개의 증발가스 압축기; 상기 복수 개의 증발가스 압축기 중 적어도 하나를 지지하는 제1 지지판; 상기 제1 지지판의 상측에 마련되며, 상기 복수 개의 증발가스 압축기 중 나머지를 지지하는 제2 지지판; 및 상기 제2 지지판을 상기 제1 지지판에 지지되는 상기 증발가스 압축기로부터 상측으로 이격시키는 이격부재를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
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